简介 笔刷 选择 & 可见性 导航 模式 蜡笔 简介 物体 结构 基本体 选择 多重帧 属性 修改器 视觉效果 材质 动画 模式 动画 & 绑定 简介 关键帧 ⾻架 晶格 约束 动作 驱动程序 标记 形态键 运动路径 物理 简介 刚体 布料 软体 流体 粒⼦系统 动态绘画 ⼒场 碰撞 烘焙物理模拟 模拟节点 渲染 简介 Eevee Cycles ⼯作台 摄像机 灯光 材质 着⾊节点 2.31 -- 2003年12⽉: 升级⾄稳定的2.3x UI项⽬。 2.32 -- 2004年1⽉: 内置渲染性能⼤翻新。 2.33 -- 2004年4⽉: 游戏引擎回归，环境光遮蔽，新的程序纹理。 2.34 -- 2004年8⽉: 粒⼦相互作⽤（particle interactions），最⼩⼆乘共形映射UV贴图（LSCM UV mapping），集成YafRay，细分曲⾯折痕加权（weighted 由。由于源代码可以在任何地⽅取得，找到和修复bug的机会也多了很多。 当⼀个程序采⽤GNU通⽤公共许可证（GPL）时: 你有权将该程序⽤于任何⽬的。 你有权修改该程序，并取得其源代码。 你有权复制和发布该程序。 你有权改进该程序，并发布你⾃⼰的版本。 作为以上权利的代价，你在发布⼀个采⽤GPL的程序时需要负⼀些责任，这些 责任是为了保护你和他⼈的⾃由: 你必须随程序提供⼀份GPL的副本，以便接收者能了解他在该许可证下的

⼏何节点 雕刻&绘制 简介 笔刷 导航 模式 蜡笔 简介 物体 结构 基本体 选择 多重帧 属性 修改器 视觉效果 材质 动画 模式 动画 & 绑定 简介 关键帧 ⾻架 晶格 约束 动作 驱动程序 标记 形态键 运动路径 物理 简介 刚体 布料 软体 流体 粒⼦系统 动态绘画 ⼒场 碰撞 烘焙物理模拟 渲染 简介 Eevee Cycles ⼯作台 摄像机 灯光 材质 着⾊节点 ⾊彩管理 December 2003: 升级⾄稳定的2.3x UI项⽬。 2.32 -- January 2004: 内置渲染性能⼤翻新。 2.33 -- April 2004: 游戏引擎回归，环境光遮蔽，新的程序纹理。 2.34 -- August 2004: 粒⼦相互作⽤（particle interactions），最⼩⼆乘共形映射UV贴图（LSCM UV mapping），集成YafRay，细分曲⾯折痕加权（weighted 由。由于源代码可以在任何地⽅取得，找到和修复bug的机会也多了很多。 当⼀个程序采⽤GNU通⽤公共许可证（GPL）时: 你有权将该程序⽤于任何⽬的。 你有权修改该程序，并取得其源代码。 你有权复制和发布该程序。 你有权改进该程序，并发布你⾃⼰的版本。 作为以上权利的代价，你在发布⼀个采⽤GPL的程序时需要负⼀些责任，这些 责任是为了保护你和他⼈的⾃由: 你必须随程序提供⼀份GPL的副本，以便接收者能了解他在该许可证下的

简介 笔刷 选择 & 可见性 导航 模式 蜡笔 简介 物体 结构 基本体 选择 多重帧 属性 修改器 视觉效果 材质 动画 模式 动画 & 绑定 简介 关键帧 ⾻架 晶格 约束 动作 驱动程序 标记 形态键 运动路径 物理 简介 刚体 布料 软体 流体 粒⼦系统 动态绘画 ⼒场 碰撞 烘焙物理模拟 模拟节点 渲染 简介 EEVEE Cycles ⼯作台 摄像机 灯光 材质 着⾊节点 2.31 -- 2003年12⽉: 升级⾄稳定的2.3x UI项⽬。 2.32 -- 2004年1⽉: 内置渲染性能⼤翻新。 2.33 -- 2004年4⽉: 游戏引擎回归，环境光遮蔽，新的程序纹理。 2.34 -- 2004年8⽉: 粒⼦相互作⽤（particle interactions），最⼩⼆乘共形映射UV贴图（LSCM UV mapping），集成YafRay，细分曲⾯折痕加权（weighted 在任何地⽅取得，找到和修复bug的机会也多了很多。 当⼀个程序采⽤GNU通⽤公共许可证（GPL）时: 你有权将该程序⽤于任何⽬的。 你有权修改该程序，并取得其源代码。 你有权复制和发布该程序。 你有权改进该程序，并发布你⾃⼰的版本。 作为以上权利的代价，你在发布⼀个采⽤GPL的程序时需要负⼀些责任，这些 责任是为了保护你和他⼈的⾃由: 你必须随程序提供⼀份GPL的副本，以便接收者能了解他在该许可证下的

Selection & Visibility 导航 模式 蜡笔 简介 物体 结构 基本体 选择 多重帧 属性 修改器 视觉效果 材质 动画 模式 动画 & 绑定 简介 关键帧 ⾻架 晶格 约束 动作 驱动程序 标记 形态键 运动路径 物理 简介 刚体 布料 软体 流体 粒⼦系统 动态绘画 ⼒场 碰撞 烘焙物理模拟 渲染 简介 Eevee Cycles ⼯作台 相机 灯光 材质 着⾊节点 ⾊彩管理 December 2003: 升级⾄稳定的2.3x UI项⽬。 2.32 -- January 2004: 内置渲染性能⼤翻新。 2.33 -- April 2004: 游戏引擎回归，环境光遮蔽，新的程序纹理。 2.34 -- August 2004: 粒⼦相互作⽤（particle interactions），最⼩⼆乘共形映射UV贴图（LSCM UV mapping），集成YafRay，细分曲⾯折痕加权（weighted 由。由于源代码可以在任何地⽅取得，找到和修复bug的机会也多了很多。 当⼀个程序采⽤GNU通⽤公共许可证（GPL）时: 你有权将该程序⽤于任何⽬的。 你有权修改该程序，并取得其源代码。 你有权复制和发布该程序。 你有权改进该程序，并发布你⾃⼰的版本。 作为以上权利的代价，你在发布⼀个采⽤GPL的程序时需要负⼀些责任，这些 责任是为了保护你和他⼈的⾃由: 你必须随程序提供⼀份GPL的副本，以便接收者能了解他在该许可证下的

⼏何节点 雕刻&绘制 简介 笔刷 导航 模式 蜡笔 简介 物体 结构 基本体 选择 多重帧 属性 修改器 视觉效果 材质 动画 模式 动画 & 绑定 简介 关键帧 ⾻架 晶格 约束 动作 驱动程序 标记 形态键 运动路径 物理 简介 刚体 布料 软体 流体 粒⼦系统 动态绘画 ⼒场 碰撞 烘焙物理模拟 渲染 简介 Eevee Cycles ⼯作台 相机 灯光 材质 着⾊节点 ⾊彩管理 2.31 -- 2003年12⽉: 升级⾄稳定的2.3x UI项⽬。 2.32 -- 2004年1⽉: 内置渲染性能⼤翻新。 2.33 -- 2004年4⽉: 游戏引擎回归，环境光遮蔽，新的程序纹理。 2.34 -- 2004年8⽉: 粒⼦相互作⽤（particle interactions），最⼩⼆乘共形映射UV贴图（LSCM UV mapping），集成YafRay，细分曲⾯折痕加权（weighted 由。由于源代码可以在任何地⽅取得，找到和修复bug的机会也多了很多。 当⼀个程序采⽤GNU通⽤公共许可证（GPL）时: 你有权将该程序⽤于任何⽬的。 你有权修改该程序，并取得其源代码。 你有权复制和发布该程序。 你有权改进该程序，并发布你⾃⼰的版本。 作为以上权利的代价，你在发布⼀个采⽤GPL的程序时需要负⼀些责任，这些 责任是为了保护你和他⼈的⾃由: 你必须随程序提供⼀份GPL的副本，以便接收者能了解他在该许可证下的

December 2003: 升级⾄稳定的2.3x UI项⽬。 2.32 -- January 2004: 内置渲染性能⼤翻新。 2.33 -- April 2004: 游戏引擎回归，环境光遮蔽，新的程序纹理。 2.34 -- August 2004: 粒⼦相互作⽤（particle interactions），最⼩⼆乘共形映射UV贴图（LSCM UV mapping），集成YafRay，细分曲⾯折痕加权（weighted 由。由于源代码可以在任何地⽅取得，找到和修复bug的机会也多了很多。 当⼀个程序采⽤GNU通⽤公共许可证（GPL）时: 你有权将该程序⽤于任何⽬的。 你有权修改该程序，并取得其源代码。 你有权复制和发布该程序。 你有权改进该程序，并发布你⾃⼰的版本。 作为以上权利的代价，你在发布⼀个采⽤GPL的程序时需要负⼀些责任，这些 责任是为了保护你和他⼈的⾃由: 你必须随程序提供⼀份GPL的副本，以便接收者能了解他在该许可证下的 的 权利。 你必须附上源代码或者让源代码可以免费获得。 如果你修改代码并发布了修改后的版本，你必须对你修改的部分使⽤GPL 并公开其源代码。（你不能把采⽤GPL的代码⽤作私有程序的⼀部分）。 你不能给该程序使⽤超出GPL条款的许可证。（不能把⼀个采⽤GPL的程 序变成私有产品）。 若要了解关于GPL的更多信息，请访问 GNU项⽬⽹站 。 Note GPL 只是针对Blender的软件部分， 不包括

2.31 -- 2003年12⽉: 升级⾄稳定的2.3x UI项⽬。 2.32 -- 2004年1⽉: 内置渲染性能⼤翻新。 2.33 -- 2004年4⽉: 游戏引擎回归，环境光遮蔽，新的程序纹理。 2.34 -- 2004年8⽉: 粒⼦相互作⽤（particle interactions），最⼩⼆乘共形映射UV贴图 （LSCM UV mapping），集成YafRay，细分曲⾯折痕加权 地⽅取得，找到和修复bug的机会也多了很多。 当⼀个程序采⽤GNU通⽤公共许可证（GPL）时： 你有权将该程序⽤于任何⽬的。 你有权修改该程序，并取得其源代码。 你有权复制和发布该程序。 你有权改进该程序，并发布你⾃⼰的版本。 作为以上权利的代价，你在发布⼀个采⽤GPL的程序时需要负⼀些责 任，这些责任是为了保护你和他⼈的⾃由: 你必须随程序提供⼀份GPL的副本，以便接收者能了解他在该许 可证下的权利。 你必须附上源代码或者让源代码可以免费获得。 如果你修改代码并发布了修改后的版本，你必须对你修改的部分 使⽤GPL并公开其源代码。（你不能把采⽤GPL的代码⽤作私有 程序的⼀部分）。 你不能给该程序使⽤超出GPL条款的许可证。（不能把⼀个采⽤ GPL的程序变成私有产品）。 若要了解关于GPL的更多信息，请访问 GNU项⽬⽹站。 Note GPL 只是针对Blender的软件部分，不包括 ⽤户借其创作的艺术作品；

2.31 -- 2003年12⽉: 升级⾄稳定的2.3x UI项⽬。 2.32 -- 2004年1⽉: 内置渲染性能⼤翻新。 2.33 -- 2004年4⽉: 游戏引擎回归，环境光遮蔽，新的程序纹理。 2.34 -- 2004年8⽉: 粒⼦相互作⽤(particle interactions)，最⼩⼆乘共形映射UV贴图(LSCM UV mapping)，集成YafRay，细分曲⾯折痕加权(weighted 由于源代码可以在任何地⽅取得，找到和修复bug的机会也多了很多。 当⼀个程序采⽤GNU通⽤公共许可证(GPL)时: 你有权将该程序⽤于任何⽬的。 你有权修改该程序，并取得其源代码。 你有权复制和发布该程序。 你有权改进该程序，并发布你⾃⼰的版本。 作为以上权利的代价，你在发布⼀个采⽤GPL的程序时需要负⼀些责任，这些 责任是为了保护你和他⼈的⾃由: 你必须随程序提供⼀份GPL的副本，以便接收者能了解他在该许可证下的 你必须附上源代码或者让源代码可以免费获得。 如果你修改代码并发布了修改后的版本，你必须对你修改的部分使⽤GPL 并公开其源代码。(你不能把采⽤GPL的代码⽤作私有程序的⼀部分)。 你不能给该程序使⽤超出GPL条款的许可证。(不能把⼀个采⽤GPL的程序 变成私有产品)。 若要了解关于GPL的更多信息，请访问 GNU项⽬⽹站 。 Note GPL 只是针对Blender的软件部分， 不包括 ⽤户借其创作的艺术作品；

简介 笔刷 选择 & 可见性 导航 模式 蜡笔 简介 物体 结构 基本体 选择 多重帧 属性 修改器 视觉效果 材质 动画 模式 动画 & 绑定 简介 关键帧 ⾻架 晶格 约束 动作 驱动程序 标记 形态键 运动路径 物理 简介 刚体 布料 软体 流体 粒⼦系统 动态绘画 ⼒场 碰撞 烘焙物理模拟 模拟节点 渲染 简介 EEVEE Cycles ⼯作台 摄像机 灯光 材质 着⾊节点 2.31 -- 2003年12⽉: 升级⾄稳定的2.3x UI项⽬。 2.32 -- 2004年1⽉: 内置渲染性能⼤翻新。 2.33 -- 2004年4⽉: 游戏引擎回归，环境光遮蔽，新的程序纹理。 2.34 -- 2004年8⽉: 粒⼦相互作⽤（particle interactions），最⼩⼆乘共形映射UV贴图 （LSCM UV mapping），集成YafRay，细分曲⾯折痕加权 地⽅取得，找到和修复bug的机会也多了很多。 当⼀个程序采⽤GNU通⽤公共许可证（GPL）时： 你有权将该程序⽤于任何⽬的。 你有权修改该程序，并取得其源代码。 你有权复制和发布该程序。 你有权改进该程序，并发布你⾃⼰的版本。 作为以上权利的代价，你在发布⼀个采⽤GPL的程序时需要负⼀些责 任，这些责任是为了保护你和他⼈的⾃由: 你必须随程序提供⼀份GPL的副本，以便接收者能了解他在该许 可证下的权利。

2.31 -- 2003年12⽉: 升级⾄稳定的2.3x UI项⽬。 2.32 -- 2004年1⽉: 内置渲染性能⼤翻新。 2.33 -- 2004年4⽉: 游戏引擎回归，环境光遮蔽，新的程序纹理。 2.34 -- 2004年8⽉: 粒⼦相互作⽤(particle interactions)，最⼩⼆乘共形映射UV贴图(LSCM UV mapping)，集成YafRay，细分曲⾯折痕加权(weighted 由于源代码可以在任何地⽅取得，找到和修复bug的机会也多了很多。 当⼀个程序采⽤GNU通⽤公共许可证(GPL)时: 你有权将该程序⽤于任何⽬的。 你有权修改该程序，并取得其源代码。 你有权复制和发布该程序。 你有权改进该程序，并发布你⾃⼰的版本。 作为以上权利的代价，你在发布⼀个采⽤GPL的程序时需要负⼀些责任，这些 责任是为了保护你和他⼈的⾃由: 你必须随程序提供⼀份GPL的副本，以便接收者能了解他在该许可证下的 你必须附上源代码或者让源代码可以免费获得。 如果你修改代码并发布了修改后的版本，你必须对你修改的部分使⽤GPL 并公开其源代码。(你不能把采⽤GPL的代码⽤作私有程序的⼀部分)。 你不能给该程序使⽤超出GPL条款的许可证。(不能把⼀个采⽤GPL的程序 变成私有产品)。 若要了解关于GPL的更多信息，请访问 GNU项⽬⽹站 。 Note GPL 只是针对Blender的软件部分， 不包括 ⽤户借其创作的艺术作品；