2.43 -- 2007年2⽉: 多分辨率⽹格、 多层 UV 纹理、 多层图像和多通道渲染和烘焙，雕刻，多 个新增遮⽚，畸变和滤镜节点，建模和动画的改进，更好的多重笔刷绘 制、 流体粒⼦、 代理对象、 序列编辑器的重写，和后期 UV 贴图绘画。 2.44 -- 2007年5⽉: ⼤新闻，除了两个新的修改器和重新启动的 64 位操作系统⽀持外，增加了 次表⾯散射，模拟⽣物和软物体表⾯的光散射。 3D视图虚拟现实场景检查、新的体积对象类型、Cycles⾃适应采样、Cycles 视图降噪、雕刻改进等。 Blender 2.9 -- 精炼 2.8 2.90 -- 2020年8⽉: 改进了天空纹理、Eevee运动模糊、雕刻改进、改进的修改器UI、改进的建 模⼯具、以及Cycles中更快的运动模糊。 2.91 -- 2020年11⽉: ⼤纲视图的改进、属性搜索、改进的⽹格布尔运算、动画曲线、体积对象 和显⽰的改进、以及更精炼的雕刻⼯具。 ⼀次重命名多个数据类型，更多信息见 批量重命名⼯具。 锁定物体模式 防⽌选择与当前模式不同的对象。 Note 这个选项可以防⽌意外的模式变化，例如当你试图在姿势模式下选择⼀ 块⾻头来制作动画，但却点击了⼀块背景布景（通常会选择那块布景并 切换到物体模式）。 你可能想禁⽤ 锁定对象模式 ，例如，当给操纵的对象加权或雕刻/绘画 时，你确实想在不同模式的对象之间切换。 偏好设置 打开设置窗⼜。 渲染菜单 渲染图⽚ F12

2.43 -- 2007年2⽉: 多分辨率⽹格、 多层 UV 纹理、 多层图像和多通道渲染和烘焙，雕刻，多 个新增遮⽚，畸变和滤镜节点，建模和动画的改进，更好的多重笔刷绘 制、 流体粒⼦、 代理对象、 序列编辑器的重写，和后期 UV 贴图绘画。 2.44 -- May 2007: ⼤新闻，除了两个新的修改器和重新启动的 64 位操作系统⽀持外，增加了 次表⾯散射，模拟⽣物和软物体表⾯的光散射。 3D视图虚拟现实场景检查、新的体积对象类型、Cycles⾃适应采样、Cycles 视图降噪、雕刻改进等。 Blender 2.9 -- 精炼 2.8 2.90 -- 2020年8⽉: 改进了天空纹理、Eevee运动模糊、雕刻改进、改进的修改器UI、改进的建 模⼯具、以及Cycles中更快的运动模糊。 2.91 -- 2020年11⽉: ⼤纲视图的改进、属性搜索、改进的⽹格布尔运算、动画曲线、体积对象 和显⽰的改进、以及更精炼的雕刻⼯具。 ⼀次重命名多个数据类型，更多信息见 批量重命名⼯具。 锁定物体模式 防⽌选择与当前模式不同的对象。 Note 这个选项可以防⽌意外的模式变化，例如当你试图在姿势模式下选择⼀ 块⾻头来制作动画，但却点击了⼀块背景布景（通常会选择那块布景并 切换到物体模式）。 你可能想禁⽤ 锁定对象模式 ，例如，当给操纵的对象加权或雕刻/绘画 时，你确实想在不同模式的对象之间切换。 偏好设置 打开设置窗⼜。 渲染菜单 渲染图⽚ F12

2.43 -- 2007年2⽉: 多分辨率⽹格、 多层 UV 纹理、 多层图像和多通道渲染和烘焙，雕刻， 多个新增遮⽚，畸变和滤镜节点，建模和动画的改进，更好的多重笔刷绘 制、 流体粒⼦、 代理对象、 序列编辑器的重写，和后期 UV 贴图绘画。 2.44 -- 2007年5⽉: ⼤新闻，除了两个新的修改器和重新启动的 64 位操作系统⽀持外，增加 了次表⾯散射，模拟⽣物和软物体表⾯的光散射。 3D视图虚拟现实场景检查、新的体积对象类型、Cycles⾃适应采样、 Cycles视图降噪、雕刻改进等。 Blender 2.9 -- 精炼 2.8 2.90 -- 2020年8⽉: 改进了天空纹理、EEVEE运动模糊、雕刻改进、改进的修改器UI、改进 的建模⼯具、以及Cycles中更快的运动模糊。 2.91 -- 2020年11⽉: ⼤纲视图的改进、属性搜索、改进的⽹格布尔运算、动画曲线、体积对象 和显⽰的改进、以及更精炼的雕刻⼯具。 基于名称执⾏⼀个操作（仅 开发选项 下）。 重命名活动项 重命名活动物体或节点，更多信息见 重命名⼯具。 批量重命名 ⼀次重命名多个数据类型，更多信息见 批量重命名⼯具。 锁定物体模式 防⽌选择与当前模式不同的对象。 Note 这个选项可以防⽌意外的模式变化，例如当你试图在姿势模式下选择⼀块⾻头 来制作动画，但却点击了⼀块背景布景（通常会选择那块布景并切换到物体模 式）。 你可能想禁⽤ 锁定物体模式 ，

2.43 -- 2007年2⽉: 多分辨率⽹格、 多层 UV 纹理、 多层图像和多通道渲染和烘焙，雕刻，多 个新增遮⽚，畸变和滤镜节点，建模和动画的改进，更好的多重笔刷绘 制、 流体粒⼦、 代理对象、 序列编辑器的重写，和后期 UV 贴图绘画。 2.44 -- May 2007: ⼤新闻，除了两个新的修改器和重新启动的 64 位操作系统⽀持外，增加了 次表⾯散射，模拟⽣物和软物体表⾯的光散射。 3D视图虚拟现实场景检查、新的体积对象类型、Cycles⾃适应采样、Cycles 视图降噪、雕刻改进等。 Blender 2.9 -- 精炼 2.8 2.90 -- 2020年8⽉: 改进了天空纹理、Eevee运动模糊、雕刻改进、改进的修改器UI、改进的建 模⼯具、以及Cycles中更快的运动模糊。 2.91 -- 2020年11⽉: ⼤纲视图的改进、属性搜索、改进的⽹格布尔运算、动画曲线、体积对象 和显⽰的改进、以及更精炼的雕刻⼯具。 instance. These can individually shown or hidden by RMB on the Status Bar area. 场景统计 集合 活动 集合 的名称。 活动的对象 显⽰当前所选活动物体的名称。 ⼏何数据（Geometry） 根据模式和物体类型显⽰有关当前场景的信息。可以是顶点、⾯、三⾓ 形、或⾻骼的数量。 物体 所选物体的数量和总数。 系统内存

2.43 -- 2007年2⽉: 多分辨率⽹格、 多层 UV 纹理、 多层图像和多通道渲染和烘焙，雕刻，多 个新增遮⽚，畸变和滤镜节点，建模和动画的改进，更好的多重笔刷绘 制、 流体粒⼦、 代理对象、 序列编辑器的重写，和后期 UV 贴图绘画。 2.44 -- 2007年5⽉: ⼤新闻，除了两个新的修改器和重新启动的 64 位操作系统⽀持外，增加了 次表⾯散射，模拟⽣物和软物体表⾯的光散射。 2.82 -- 2020年2⽉: UDIM和USD ⽀持、⽤于流体和烟雾模拟的MantaFlow、AI降噪、蜡笔改进 等。 2.83 -- 2020年6⽉: 3D视图虚拟现实场景检查、新的体积对象类型、Cycles⾃适应采样、Cycles 视图降噪、雕刻改进等。 Blender 2.9 -- 精炼 2.8 2.90 -- 2020年8⽉: Improved sky texture, Eevee modeling tools, and faster motion blur in Cycles. 2.91 -- 2020年11⽉: ⼤纲视图的改进、属性搜索、改进的⽹格布尔运算、动画曲线、体积对象 和显⽰的改进、以及更精炼的雕刻⼯具。 2.92 -- 2021年2⽉: ⼏何节点、基元添加⼯具、雕刻改进、油笔曲线编辑、Cycles颜⾊属性烘 焙、APIC 流体模拟、视频序列器改进等等。 2

2.43 -- 2007年2⽉: 多分辨率⽹格、 多层 UV 纹理、 多层图像和多通道渲染和烘焙，雕刻，多 个新增遮⽚，畸变和滤镜节点，建模和动画的改进，更好的多重笔刷绘 制、 流体粒⼦、 代理对象、 序列编辑器的重写，和后期 UV 贴图绘画。 2.44 -- May 2007: ⼤新闻，除了两个新的修改器和重新启动的 64 位操作系统⽀持外，增加了 次表⾯散射，模拟⽣物和软物体表⾯的光散射。 2.82 -- 2020年2⽉: UDIM和USD ⽀持、⽤于流体和烟雾模拟的MantaFlow、AI降噪、蜡笔改进 等。 2.83 -- 2020年6⽉: 3D视图虚拟现实场景检查、新的体积对象类型、Cycles⾃适应采样、Cycles 视图降噪、雕刻改进等。 Blender 2.9 -- 精炼 2.8 2.90 -- 2020年8⽉: Improved sky texture, Eevee modeling tools, and faster motion blur in Cycles. 2.91 -- 2020年11⽉: ⼤纲视图的改进、属性搜索、改进的⽹格布尔运算、动画曲线、体积对象 和显⽰的改进、以及更精炼的雕刻⼯具。 2.92 -- 2021年2⽉: ⼏何节点、基元添加⼯具、雕刻改进、油笔曲线编辑、Cycles颜⾊属性烘 焙、APIC 流体模拟、视频序列器改进等等。 2

-- February 2007: 多分辨率⽹格、 多层 UV 纹理、 多层图像和多通道渲染和烘焙， 雕刻，多个新增遮⽚，畸变和滤镜节点，建模和动画的改进，更 好的多重笔刷绘制、 流体粒⼦、 代理对象、 序列编辑器的重 写，和后期 UV 贴图绘画。 2.44 -- 2007年5⽉: ⼤新闻，除了两个新的修改器和重新启动的 64 位操作系统⽀持 外，增加了次表⾯散射，模拟⽣物和软物体表⾯的光散射。 3D视图虚拟现实场景检查、新的体积对象类型、Cycles⾃适应采 样、Cycles视图降噪、雕刻改进等。 Blender 2.9 -- 精炼 2.8 2.90 -- 2020年8⽉: 改进了天空纹理、EEVEE运动模糊、雕刻改进、改进的修改器 UI、改进的建模⼯具、以及Cycles中更快的运动模糊。 2.91 -- 2020年11⽉: ⼤纲视图的改进、属性搜索、改进的⽹格布尔运算、动画曲线、 体积对象和显⽰的改进、以及更精炼的雕刻⼯具。 基于名称执⾏⼀个操作（仅 开发选项 下）。 重命名活动项 重命名活动物体或节点，更多信息见 重命名⼯具。 批量重命名 ⼀次重命名多个数据类型，更多信息见 批量重命名⼯具。 锁定物体模式 防⽌选择与当前模式不同的对象。 Note 这个选项可以防⽌意外的模式变化，例如当你试图在姿势模式下选择 ⼀块⾻头来制作动画，但却点击了⼀块背景布景（通常会选择那块布 景并切换到物体模式）。 你可能想禁⽤ 锁定物体模式 ，例如，当给操纵的物体绘制权重或雕刻/

从原理图交叉探测 左侧工具栏显示控件 创建 PCB 基本 PCB 概念 性能 从原理图开始 从头开始 电路板设置 编辑电路板 放置和绘制操作 捕捉 编辑对象属性 使用封装 使用焊盘 使用区域 图形对象 标注 布线 向前和向后批注 锁定 批量编辑工具 清理工具 正在导入图形 检查电路板 测量工具 设计规则检查 Find tool 3D 查看器 网络检查 活动图层被画在其他层之上，并且将是指定给新创建对象的层。 活动图层在顶部工具栏的 层选择器下拉框中显示，并在外观面板中也高亮显示。 若要变更活动图层，可以左键单击外观面板中的图层名称、 使用顶部工具栏中的下拉图层选择器或使用快捷键。 可以隐藏图层以简化电路板视图。即使层是活动层，也可以隐 藏该层。 电路板层的显示顺序 NOTE TODO：写下这一节。 外观面板 外观面板提供用于管理 Pcbnew 绘图画布中对象的可见性、 绘图画布中对象的可见性、颜色和不透明度的控件。它有三个选项卡：图层选项卡包 含电路板层的控件，对象选项卡包含不同类型图形对象的控件，网络选项卡包含飞线和铜项外观的控件。 图层控件 在外观面板的图层选项卡中，每个电路板图层都显示了其颜色和可见性状态。 活动图层在色块的左边有一个箭头指 示器。 左键点击一个图层来选择它作为活动图层。 左键单击相应的可见性图标，在可见和隐藏之间切换该图层。 双 击或中击色块来改变该图层的颜色。

从原理图交叉探测 左侧工具栏显示控件 创建 PCB PCB 的基本概念 性能 从原理图开始 从头开始 电路板设置 编辑电路板 放置和绘制操作 捕捉 编辑对象属性 使用封装 使用焊盘 使用区域 图形对象 标注 布线 向前和向后批注 锁定 批量编辑工具 清理工具 正在导入图形 检查电路板 测量工具 设计规则检查 查找工具 搜索面板 3D 查看器 网络检查 活动层被画在其他层的上面，并且将是分配给新创建的对象的层。 活动层在顶部工具栏的图层 选择器下拉框中显示，在外观面板中也被突出显示。 要改变活动层，你可以左键单击外观面板中的层名，使用顶部 工具栏中的下拉层选择器，或使用快捷键。 图层可以被隐藏以简化棋盘视图。 你可以隐藏一个层，即使它是活动 层。 电路板层的显示顺序 NOTE TODO：写下这一节。 外观面板 外观面板提供了管理 PCB 编辑器绘图画布中的对象的可见性、颜色和不透明度的控制。 编辑器绘图画布中的对象的可见性、颜色和不透明度的控制。 它有三个标签：层标签包含 电路板层的控制，对象标签包含不同类型图形对象的控制，网络标签包含飞线和铜项目的外观控制。 图层控件 在外观面板的图层选项卡中，每个电路板图层都显示了其颜色和可见性状态。 活动图层在色块的左边有一个箭头指 示器。 左键点击一个图层来选择它作为活动图层。 左键单击相应的可见性图标，在可见和隐藏之间切换该图层。 双 击或中击色块来改变该图层的颜色。

PCB 的基本概念 性能 从原理图开始 从头开始 电路板设置 编辑电路板 放置和绘制操作 Grids and snapping 编辑对象属性 电路板边框 (Edge Cuts) 使用封装 使用焊盘 使用敷铜 布线 图形对象 尺寸标注 Rule Areas (Keepouts) 向前和向后批注 锁定 Groups Creating Arrays 清理工具 检查电路板 从视口中心缩小。 缩放以适应绘图页周围的框架。 缩放以适应绘图页内的对象。 允许你画一个方框来确定缩放的区域。 4 光标的当前位置显示在窗口的底部（X 和 Y），同时显示的还有当前的缩放系数（Z）、光标的相对位置（dx、dy 和 dist）、网格设置和显示单位。 按 可以将相对坐标重置为零。这对于测量两点之间的距离或对齐对象很有用。 快捷键 快捷键 + 显示当前快捷键列表。默认的快捷键列表包含在本手册的 显示和选择控件 板层 PCB 编辑器中的层代表电路板上的物理铜层，以及用于定义丝印、阻焊和电路板边框等的图形层。 在编辑器中，总 有一个层是活动的。 活动图层绘制在其他图层之上，并将成为分配给新创建对象的图层。 活动层在顶部工具栏的图 层选择器下拉框中显示，在外观面板中也被突出显示。 要改变活动层，你可以左键单击外观面板中的层名，使用顶 部工具栏中的下拉层选择器，或使用快捷键。 图层可以被隐藏以简化电路板视图。